[发明专利]彩色滤光片的蚀刻方法与其制作方法无效
| 申请号： | 200610074026.6 | 申请日： | 2006-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN101051095A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 吴沂庭;余华伟 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/23 | 分类号： | G02B5/23 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种彩色滤光片的蚀刻方法，此方法是先提供基板，此基板上已形成有多层式滤光片材料层。之后，将基板置入蚀刻反应室中，通入含有物理反应气体与化学反应气体的混合气体，以进行干式蚀刻工艺，将多层式滤光片材料层图案化。 | ||
| 搜索关键词： | 彩色 滤光 蚀刻 方法 与其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种彩色滤光片的蚀刻方法，包括：提供一基板，该基板上已形成有一多层式滤光片材料层；以及将该基板置入一蚀刻反应室中，通入一混合气体以进行一干式蚀刻工艺，将该多层式滤光片材料层图案化，该混合气体包括一物理反应气体与一化学反应气体。
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