[发明专利]图案形成装置和方法,判断位置的方法、测量设备和光刻装置有效
| 申请号： | 200610073977.1 | 申请日： | 2006-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN1904737A | 公开（公告）日： | 2007-01-31 |
| 发明（设计）人： | U·米坎;H·J·M·梅杰 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;G06F17/00;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种产生光刻图案形成装置的方法，利用光刻投影装置把在图案形成装置中的图案转移到衬底，包括：定义形成在图案形成装置中的图案的特征，该特征具有选定的尺寸和定向以便在衬底上建立所需图像；调整特征的尺寸以补偿所需图像的位移误差和尺寸误差，该位移误差和尺寸误差由图案转移期间特征上的辐射的有效阴影角引入或者与图案转移期间曝光狭缝内的特征的位置有关。用于确定目标图象在衬底上的位置或接近衬底的位置的测量装置，通过图案形成装置上的特征形成目标图象，测量装置包括用于测量目标图象在衬底上的位置或接近衬底的位置的检测器，该检测器补偿目标图像的所测量位置的位移误差和尺寸误差。包括测量装置的光刻装置。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 装置 方法 判断 位置 测量 设备 光刻 | ||
【主权项】：
1、一种产生光刻图案形成装置的方法，所述装置利用光刻投影装置把在所述图案形成装置中形成的图案转移到衬底上，所述方法包括：定义形成在所述图案形成装置中的图案内的特征，其中所述特征具有选定的尺寸和定向，以便在图案转移期间在所述衬底上建立所需图像；为所述图案形成装置上的多个点计算在所定义特征上的辐射的有效阴影角；根据所计算的有效阴影角调整所定义的特征，以补偿所述所需图像的位移误差和尺寸误差。
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