[发明专利]薄膜熔丝相变随机存取存储器及其制造方法有效
申请号: | 200610073652.3 | 申请日: | 2006-04-18 |
公开(公告)号: | CN1881640A | 公开(公告)日: | 2006-12-20 |
发明(设计)人: | 龙翔澜;陈士弘 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 夏青 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种存储器装置,包含一个有一顶端面之第一电极、一个有一顶端面之第二电极,以及一介于第一电极和第二电极之间的绝缘构件,该绝缘构件在第一电极和第二电极之间的顶端表面附近有一厚度。一存储器材料之电桥越过该绝缘构件,在第一电极和第二电极之间穿过绝缘构件形成一路径。提供一这样的存储单元阵列,在此阵列中,多个电极元件和其间的绝缘构件在集成电路上构成一电极层。此存储器材料电桥有次微影尺寸。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 相变 随机存取存储器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种存储器元件,包含:一第一电极有着一顶端表面;一第二电极有着一顶端表面;一绝缘构件,介于该第一电极和该第二电极之间,该绝缘构件在该第一电极和该第二电极之间的顶端表面附近有一厚度;以及一电桥,该电桥越过该绝缘构件,该电桥有一第一面和一第二面,并以该第一面与该第一电极和该第二电极的该顶端表面接触,并且界定了该第一电极和该第二电极间跨越该绝缘构件的路径,此电极间路径之长度由绝缘构件的宽度来界定,其中该电桥包含了有至少两种固相的存储器材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610073652.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有透镜的发光二极管光源
- 下一篇:半导体表面护板和方法