[发明专利]负性光致抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 200610072012.0 | 申请日： | 2006-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN1847981A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 金玟秀;李学俊;朴赞硕 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种负性光致抗蚀剂组合物，具体地说，本发明提供了一种包含聚(2－乙基－2－噁唑啉)、叠氮化物类光敏剂和纯水的负性光致抗蚀剂组合物。本发明的负性光致抗蚀剂组合物可以防止环境危害，当应用于CRT的B/M生产过程、荫罩生产过程等时可代替采用Cr的光致抗蚀剂，并且可以在曝光时通过适当地选择光使光吸收带符合加工条件，从而增加感光度，使得可以得到具有优异粘附性和分辨率的点状/条状光致抗蚀剂膜。 | ||
| 搜索关键词： | 负性光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种负性光致抗蚀剂组合物，该组合物包含：a)聚(2-乙基-2-噁唑啉)；b)叠氮化物类光敏剂；和c)纯水。
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