[发明专利]用于制造图案化介质加印母体的装置、方法和系统有效
| 申请号： | 200610071942.4 | 申请日： | 2006-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN1848250A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·R·阿尔布雷克特;杨宏渊 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于制造图案化介质加印母体的装置、系统和方法。衬底和沉积掩模可通过中间间隔元件被固定地附着，使得所述衬底和沉积掩模在沉积工艺期间充当统一元件。沉积掩模可包括通过传统光刻工艺产生的多个孔。材料可从以不同沉积角度取向的多于一个的沉积源通过所述沉积掩模沉积到所述衬底上。因此所得衬底沉积图案具有比沉积掩模孔密度更大的密度，同时避免了沉积图案畸变。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 图案 介质 加印 母体 装置 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造图案化介质的装置，该装置包括：基本平坦的衬底；沉积掩模，其耦合到所述衬底，所述沉积掩模具有适于将材料导向到所述衬底上的多个孔；以及至少一个沉积源，其适于以各种沉积角度通过所述多个孔沉积所述材料从而产生比所述多个孔具有更大的密度的基本同心的记录区域。
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