[发明专利]等离子体显示屏无效
| 申请号： | 200610067805.3 | 申请日： | 2006-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN1841630A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | 须川幸次;岩濑信博;川北哲郎 | 申请（专利权）人： | 富士通日立等离子显示器股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J17/49 | 分类号： | H01J17/49;H01J17/02;H01J17/04;H01J17/20;H01J11/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 岳耀锋 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种等离子体显示屏，通过使用碱土类金属氧化物中的具有使VUV难以透过的性质的氧化物作为保护膜，阻止放电时产生的VUV透过电介质层，防止来自电介质层中的杂质气体的产生，由此防止封入屏中的放电气体的污染。该等离子体显示屏包括：隔着放电空间对置配置的一对基板、覆盖在一对基板中的至少一个基板上形成的多个电极而在基板上形成的电介质层、覆盖该电介质层而在基板上形成的保护膜、以及封入放电空间的包含氙的放电气体构成；且电介质层由包含氧化硅的材料形成；保护膜由具有使电极间放电中产生的紫外线难以透过的性质的材料形成。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 显示屏 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体显示屏，包括：隔着放电空间对置配置的一对基板、覆盖在一对基板中的至少一个基板上形成的多个电极而在基板上形成的电介质层、覆盖该电介质层而在基板上形成的保护膜、以及封入放电空间的包含氙的放电气体；且电介质层由包含氧化硅的材料形成；保护膜由具有使电极间放电时产生的紫外线难以透过的性质的材料形成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通日立等离子显示器股份有限公司，未经富士通日立等离子显示器股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610067805.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：成形体的制造装置
- 下一篇：图像显示设备及其方法
