[发明专利]高反射率陶瓷腔体的制备方法无效
申请号: | 200610066448.9 | 申请日: | 2006-03-31 |
公开(公告)号: | CN1830890A | 公开(公告)日: | 2006-09-13 |
发明(设计)人: | 李强;姜梦华;丁小艇 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | C04B35/10 | 分类号: | C04B35/10;C04B35/622;C04B41/86;B28B1/29;B28B11/08 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张慧 |
地址: | 100022*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属大功率固体激光器领域。现有陶瓷腔体一次成型,且釉层不含氧化钐,反射率90%,电光转换效率3%,且使输出功率受到限制。本发明步骤:制备90~110nm的氧化铝粉,用乙醇或乙醚拌成泥状,铺平模具内,每次铺设的厚度为0.8mm-1.2mm,每铺完一层均经预处理,即对氧化铝粉末加温加压,压力600-1200kg,温度500-800℃,持续时间6-10小时,总厚度为12mm-16mm完成氧化铝腔体的成形;烧结;腔体表面加工至粗糙度小于0.1mm;退火;表面上釉,釉层材料为硫酸钡并掺氧化钐,氧化钐重量百分比为1.0-1.5%,制备90~100nm的硫酸钡和氧化钐粉末,将两者混合并拌成稀泥状刷于腔体表面,厚度为0.1~0.2mm,烧结。本发明使得陶瓷腔体致密性好,泵浦均匀性好、反射率高,泵浦光转换效率高。 | ||
搜索关键词: | 反射率 陶瓷 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种高反射率陶瓷腔体的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步,制备粉体直径为90~110nm的氧化铝粉末,用乙醇或乙醚将氧化铝粉末拌成泥状,均匀铺平于已设计好的陶瓷腔体模具内,每次铺设的厚度为0.8mm-1.2mm,每铺完一层,均经预处理,即对氧化铝粉末加温加压,压力范围为600-1200kg,温度范围500-800℃,持续时间6-10小时,铺设总厚度为12mm-16mm完成氧化铝腔体的成形;第二步,对成形的氧化铝腔体进行烧结;第三步,氧化铝陶瓷腔体腔体表面在磨床上对陶瓷腔体表面进行加工,表面粗糙度小于0.1mm;第四步,表面加工后的氧化铝陶瓷腔体进行退火处理;第五步,氧化铝陶瓷腔体表面上釉,釉层材料为硫酸钡并掺氧化钐,氧化钐重量百分比为1.0-1.5%,制备粉体直径为90~100nm的硫酸钡粉末和氧化钐粉末,用乙醇或乙醚将两者混合并拌成稀泥状,均匀刷于氧化铝陶瓷腔体表面,厚度为0.1~0.2mm,置于烧结炉内烧结。
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