[发明专利]减少光罩沉淀缺陷的方法无效
| 申请号： | 200610064834.4 | 申请日： | 2006-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN1983035A | 公开（公告）日： | 2007-06-20 |
| 发明（设计）人： | 戴逸明 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/673;B65D85/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 台湾省新竹科学*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是有关于一种减少光罩沉淀缺陷的方法，在一半导体生产制程中，有一运送光罩的容器，而光罩包括一由绝缘材料制成的基底，且此基底表面沉积了一金属层。本发明揭露一种隔离和移除环境污染物的方法，此方法包括以惰性气体充填此容器，借以清除其中的环境污染物，例如以容器的入口供净化用的惰性气体通入，而容器的出口供容器内的不纯物排出，本发明提高了产品良率、光罩产能以及光罩使用寿命，减少了光罩经过清洁后的关键尺寸损失，以及减少了光罩重工率的不良影响。 | ||
| 搜索关键词： | 减少 沉淀 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
1、一种减少光罩沉淀缺陷的方法，其特征在于使用在一半导体制程中输送由绝缘材料制成的一基底及沉积在该基底的一表面的一金属层所构成的一光罩的一容器，其中减少光罩沉淀缺陷的方法，至少包含以一流体通入该容器，借此清除环境污染物。
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