[发明专利]使用激光束形成通孔的方法无效
| 申请号： | 200610064351.4 | 申请日： | 2006-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN101011780A | 公开（公告）日： | 2007-08-08 |
| 发明（设计）人： | 成天也;曹光佑;金圣勋;柳忠基 | 申请（专利权）人： | EO技术株式会社 |
| 主分类号： | B23K26/38 | 分类号： | B23K26/38;B23K26/40;B23K26/06;H05K3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种使用激光束形成通孔的方法。所述方法包括：通过照射具有预定频率的激光束，在第一金属层中形成第一孔；降低具有相同频率的激光束的能量密度；和通过照射具有相同频率的激光束，在介电层形成对应于第一孔的第二孔。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 激光束 形成 方法 | ||
【主权项】：
1、一种使用激光束在多层基片中形成通孔的方法，所述多层基片具有：第一金属层；在第一金属层下方形成的介电层；和在介电层下方形成的第二金属层，所述方法包括以下步骤：通过照射具有预定频率的激光束，在第一金属层中形成第一孔；降低具有相同频率的激光束的能量密度；和通过照射具有相同频率的激光束，在介电层形成与第一孔对应的第二孔。
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