[发明专利]用于光学扫描表面的扫描设备无效
| 申请号： | 200610064159.5 | 申请日： | 2006-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN1991435A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | M·维德尔 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | G02B26/10 | 分类号： | G02B26/10;G01N21/84;A61B5/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘春元;魏军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于尤其光学扫描特别是不平的表面的扫描设备。所述扫描设备包括电磁初级辐射源、为偏转来自初级辐射源的初级辐射而设立的可控射束偏转设备、和探测器，所述探测器为探测通过初级辐射射到对象上而产生的二次辐射被设立。通过使用可控初级辐射，能够准确地照射对象的要成像的点。因此成像分辨率基本上由初级射线束的范围或者扩展确定。初级射线束同时也确定要成像的点的几何位置，使得可以去掉成像光学器件和像素化的二次辐射探测器。去掉成像光学器件极大地提高了景深清晰度，所述景深清晰度仅尚由初级辐射的扩展限制。由此可以在最大程度上可变地调整在扫描设备和要被扫描的对象之间的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 扫描 表面 设备 | ||
【主权项】：
1.扫描设备(1，2)，包括电磁初级辐射源、为偏转来自初级辐射源的初级辐射所设立的可控射束偏转设备、和探测器，所述探测器为探测由于初级辐射射到对象(30)上所产生的二次辐射而被设立。
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