[发明专利]可再定位的光泽照片介质及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610057454.8 申请日: 2006-03-15
公开(公告)号: CN1931598A 公开(公告)日: 2007-03-21
发明(设计)人: 乔纳森·P·基钦;李所华;康斯坦斯·J·纳尔逊;戴维·N·赫林;格雷戈里·J·安德森 申请(专利权)人: 3M新设资产公司
主分类号: B41M5/40 分类号: B41M5/40;B41M5/50;B44C1/165
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 王允方;刘国伟
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种照片介质,其具有一可成像衬底,所述可成像衬底具有相对的第一和第二表面。一图像接收涂层设置于所述可喷墨打印薄片的所述第一表面上。一可再定位粘合剂设置于所述衬底的所述第二表面上,但所述粘合剂并不覆盖所述整个第二表面。一衬片设置于所述衬底的所述第二表面上。所述照片介质具有一在60°处大于约25%的光泽值、一小于约200克/英寸的对聚酯的粘着力及一大于约600秒的静态角度测试粘合值。
搜索关键词: 定位 光泽 照片 介质 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种可再定位光泽照片介质,其包括:一可成像衬底,其包括一具有相对的第一和第二表面的基片及一设置于所述基片的所述第一表面上的图像接收涂层,其中所述可成像衬底具有一在60°处大于约25%的光泽值;一可再定位粘合剂,其设置于所述基片的所述第二表面上,其中所述粘合剂不覆盖所述基片的所述整个第二表面;及,一衬片,其设置于所述可再定位粘合剂上,其中所述衬片具有与所述基片大致相同的尺寸并大致覆盖所述基片的所述整个第二表面。
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