[发明专利]一种液晶显示器阵列基板的像素结构及其制造方法有效
| 申请号: | 200610057243.4 | 申请日: | 2006-03-09 |
| 公开(公告)号: | CN101034215A | 公开(公告)日: | 2007-09-12 |
| 发明(设计)人: | 邱海军;王章涛;陈旭;闵泰烨 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133;G02F1/136;G03F7/20;H01L21/027 |
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| 地址: | 100016*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种液晶显示器阵列基板的像素结构,包括玻璃基板,形成于玻璃基板上的栅线,栅电极,数据线,源电极,漏电极,掺杂层,有源层,第一绝缘层,第二绝缘层,透明像素电极,钝化层,其特征在于:透明像素电极和栅线、栅电极之间有横向的隔断槽;透明像素电极和数据线、源电极之间有纵向的隔断槽。本发明同时也公开了制造该像素结构的方法。本发明适用于TFT的4mask工艺中有ITO直接沉积在源、漏电极上,并进行钝化层刻蚀的工艺中。在不增加现有工艺和设计成本的基础上,本发明可以提高生产的成品率,同时降低产品修复的数目,从而降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 液晶显示器 阵列 像素 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种液晶显示器阵列基板的像素结构,包括玻璃基板,形成于玻璃基板上的栅线,栅电极,数据线,源电极,漏电极,掺杂层,有源层,第一层绝缘层,第二层绝缘层,透明像素电极,钝化层,其特征在于:透明像素电极和栅线、栅电极之间有横向的隔断槽。
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