[发明专利]基板处理装置无效
| 申请号: | 200610051362.9 | 申请日: | 2006-01-05 |
| 公开(公告)号: | CN1812071A | 公开(公告)日: | 2006-08-02 |
| 发明(设计)人: | 小田裕史;川根旬平 | 申请(专利权)人: | 大日本网目版制造株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/00;B08B3/02;B65G49/06 |
| 代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高龙鑫;王玉双 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种基板处理装置,用于减少设置所必需的占地面积,可以用简单的结构以倾斜姿态搬送基板,降低设备成本。搬送方向转换部(40)转换搬送方向,通过该倾斜搬送部(49),在大致维持通过第一搬送路(41)的梯度而处于倾斜姿态的状态不变的条件下,将在第一处理部(20)实施处理后的基板搬送到第二搬送路(43)。液体供给部向由此倾斜搬送部(49)搬送的基板(B)的主面供给处理液。在第二搬送路(43)以及第二处理部(30),使由倾斜搬送部(49)保持为倾斜姿态的基板,以原姿态在与第一处理部20相反方向上进行搬送和处理。 | ||
| 搜索关键词: | 处理 装置 | ||
【主权项】:
1.一种基板处理装置,具有:第一处理部,其在向预先设定的方向搬送基板的同时处理该基板;第二处理部,其与上述第一处理部大致平行地配置,在向与上述预先设定的方向相反方向搬送基板的同时处理该基板;搬送方向转换部,其在上述第一处理部的基板搬送结束端和上述第二处理部的基板搬送开始端之间搬送基板的同时,将上述第一处理部的基板搬送方向转换为上述第二处理部的基板搬送方向,其特征在于,上述搬送方向转换部具有:第一搬送路,其从上述第一处理部的基板搬送结束端接受基板,并朝向基板搬送方向具有梯度;倾斜搬送部,其在大致维持由上述第一搬送路具有的上述梯度被倾斜的基板的姿态的状态下搬送基板;液体供给单元,其向由上述倾斜搬送部搬送的基板的主面供给处理液。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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