[发明专利]高阻隔多层共挤膜及制备方法无效
| 申请号： | 200610049813.5 | 申请日： | 2006-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN1817637A | 公开（公告）日： | 2006-08-16 |
| 发明（设计）人： | 欧阳少波 | 申请（专利权）人： | 宁波市奕盛电子科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/28 | 分类号： | B32B27/28;B32B7/12;B32B37/02;B32B37/12 |
| 代理公司： | 宁波市天晟知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张文忠 |
| 地址： | 315051浙江省宁波市江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了高阻隔多层共挤膜，包括基膜层，基膜层经第一粘合层粘合有高阻隔特殊尼龙层，该高阻隔特殊尼龙层表面经第二粘合层粘合有外表膜层；基膜层为共聚酯PETG层，外表膜层为聚铣胺PA层。采用的高阻隔多层共挤膜的制备方法，共聚酯PETG层薄膜在牵引力的作用下衡张力行进，刷上粘合剂形成第一粘合层，再将高阻隔特殊尼龙层薄膜与共聚酯PETG层薄膜面粘合在一起；随后刷上粘合剂形成第二粘合层，最后放卷架放下聚铣胺PA层薄膜与高阻隔特殊尼龙层薄膜面粘合在一起，构成高阻隔多层共挤膜坯，该膜坯位于两滚轮之间，并经该两滚轮在机械压力的作用下挤压成高阻隔多层共挤膜。其具有高度透明，抗冲击性能；以及强韧性和耐穿刺性。 | ||
| 搜索关键词： | 阻隔 多层 共挤膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、高阻隔多层共挤膜，包括基膜层(1)，其特征是：所述的基膜层(1)经第一粘合层(2)粘合有高阻隔特殊尼龙层(3)，该高阻隔特殊尼龙层(3)表面经第二粘合层(4)粘合有外表膜层(5)；所述的基膜层(1)为共聚酯PETG层，该共聚酯PETG是一种非晶型共聚酯，是一种以1、4-环己烷二甲醇进行共聚改性得到的聚酯；所述的外表膜层(5)为聚铣胺PA层，该聚铣胺PA是分子式链上含有重复铣胺基团的一类热塑性树脂。
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