[发明专利]一种在树脂镜片上沉积碳膜的方法

摘要

一种在树脂镜片上沉积碳膜的方法，采用等离子体化学气相沉积方法在树脂镜片上沉积碳膜，利用高频电场所提供的高能量等离子体与通入的烃类气体产生裂解及淀积反应，在镜片表面形成碳膜，工艺过程为：用超声波清洗机对树脂基片进行清洗；再进行等离子清洗工艺，以Ar离子对基片清洗5min；通烃类碳源气体和氢气，进行碳膜的沉积，射频能量取值15～400W；烃类碳源气体、H₂气体浓度比为1∶(0～3)，沉积时真空度10～50Pa；沉积时间为10s～30min。所制备的碳膜均匀、致密，没有大颗粒的附着，没有开裂的现象，膜基结合良好，镜片表面硬度及抗划擦性能显著增强。

主权项

1、一种在树脂镜片上沉积碳膜的方法，其特征在于采用等离子体化学气相沉积方法在树脂镜片上沉积碳膜，利用高频电场所提供的高能量等离子体与通入的烃类气体产生裂解及淀积反应，在镜片表面形成碳膜，采用电容耦合射频等离子体增强化学气相沉积装置，按如下工艺步骤进行：(1)清洗树脂基片，用超声波清洗机对树脂基片进行清洗；(2)进行等离子体清洗工艺，将真空室放气后，打开真空室，把清洗好的树脂样片放在下电极板上；关闭真空室，开始抽气，同时打开射频电源进行预热，当系统真空度稳定后，向真空室内通入氩气；氩气的流量稳定后，打开射频电源的板压开关，调整射频能量为40～60W，调节匹配电容，使反射功率最小，用Ar离子对基片清洗约5min；(3)等离子体清洗后，通入烃类碳源气体和氢气，待流量稳定后，调整射频功率，进行碳膜的沉积，沉积过程中，射频能量取值15～400W；烃类碳源气体、H2气体浓度比为1∶(0～3)，工作压力为10～50Pa；沉积时间为10s～30min。