[发明专利]加快镀膜机真空室达到高空度的方法有效

专利信息
申请号: 200610030790.3 申请日: 2006-09-04
公开(公告)号: CN1912177A 公开(公告)日: 2007-02-14
发明(设计)人: 凌波;贺洪波;易葵;范正修;袁磊;邵建达 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种加快镀膜机真空室达到高空度的方法,其特征在于是抽真空在达到高真空且抽气速率呈明显下降趋势时,打开充气阀,调节流量计逐渐充入纯度为99.99%及其以上的高纯氮气,最后将系统内总压强控制在1×10-2Pa,持续充氮气15~30分钟,之后关闭充气阀,继续进行抽气,直到所需的本底真空。本方法可以用来提高真空泵机组的排气能力,加快镀膜室内残余气体的排出,有效地提高了镀膜室的真空度并缩短了系统达到所需高真空度的时间,进而能改善所镀制薄膜的质量。本发明具有成本低、省时、操作简便和适用范围广的特点。
搜索关键词: 加快 镀膜 真空 达到 高空 方法
【主权项】:
1、一种加快镀膜机真空室达到高空度的方法,其特征在于是抽真空在达到高真空且抽气速率呈明显下降趋势时,打开充气阀,调节流量计逐渐充入纯度为99.99%及其以上的高纯氮气,最后将系统内总压强控制在1×10-2Pa,持续充氮气15~30分钟,之后关闭充气阀,继续进行抽气,直到所需的本底真空。
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