[发明专利]氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法无效
| 申请号: | 200610026974.2 | 申请日: | 2006-05-26 |
| 公开(公告)号: | CN1850916A | 公开(公告)日: | 2006-10-25 |
| 发明(设计)人: | 雷红;张鹏珍;卢海参;张泽芳;肖保其 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
| 主分类号: | C09C1/68 | 分类号: | C09C1/68;C09G1/02 |
| 代理公司: | 上海上大专利事务所 | 代理人: | 顾勇华 |
| 地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法,属高精密抛光用磨料的制备工艺技术领域。本发明的制备方法是先制备α-Al2O3分散液:于去离子水中加入一定量的α-Al2O3及分散剂六偏磷酸钠,搅匀,后加入稀碱和稀酸溶液,调节PH值为9,采用超声分散和球磨分散;然后加热至反应温度80~100℃,再在α-Al2O3分散液中加入一定量的Na2SiO3和稀H2SO4,反应完毕后陈化2小时,然后离心分离、提纯、烘干,最终制得包覆有SiO2的氧化铝/氧化硅复合磨粒。由该复合磨粒配制成的抛光液,对计算机硬盘基片和光盘玻璃基片进行抛光,可明显降低表面的粗糙度和波纹度。 | ||
| 搜索关键词: | 氧化铝 氧化 复合 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法,其特征在于具有以下的制备过程和步骤:a.先制备α-Al2O3分散液:于去离子水中加入一定量的α-Al2O3,配制成重量百分含量为10~15%的水溶液;随后再加入浓度为5%的NaOH溶液和1%稀H2SO4,调节PH值为9;然后加入分散剂六偏磷酸钠,用搅拌机搅拌均匀,然后进行超声分散,再进行球磨分散,制得α-Al2O3分散液;b.将上述α-Al2O3分散液中加热至反应温度80~100℃,加入一定量的Na2SiO3和稀H2SO4,保持溶液PH值为9;加入Na2SiO3的量相对氧化铝的量来计量,为氧化铝重量的5~50%;反应完毕后,陈化2小时,然后离心分离、提纯、烘干,最终得到包覆有SiO2的氧化铝/氧化硅复合磨粒。
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