[发明专利]一种复合减振式光刻装置有效
| 申请号： | 200610025895.X | 申请日： | 2006-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN1837964A | 公开（公告）日： | 2006-09-27 |
| 发明（设计）人： | 严天宏 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于半导体制造技术领域，具体地公开了一种复合减振式光刻装置，其包括设置整机基础框架上的采用统一主动减振支撑或者工件台系统、掩膜台系统、照明系统和曝光系统分别通过各自的减振装置独立支撑在整机基础框架上。上述两种方案中各个分系统的支撑结构均可以根据需要辅以颗粒阻尼器设计，以提高系统动力学性能。本发明光刻装置实现了有效降低环境噪声与振动等各方面干扰影响的目的，可广泛用于半导体设备及其它领域对工作台等有精确定位要求的减振设计。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 复合 减振式 光刻 装置 | ||
【主权项】：
1.一种复合减振式光刻装置，包括设置在整机基础框架(102)上的工件台系统(104)、掩膜台系统(117)、照明系统(115)、曝光系统(108)、调平调焦系统(107)和离轴对准系统(119)，其特征在于，还包括：主基板(125)和主动减振系统(106)；所述主基板(125)通过主动减振系统(106)支撑在整机基础框架(102)上；所述照明系统(115)、曝光系统(108)、调平调焦系统(107)、离轴对准系统(119)、工件台系统(104)、掩膜台系统(117)分别通过支撑支架支撑在主基板(125)上；曝光系统(108)与主基板(125)之间设有柔性调节支撑(118)；所述主基板(125)上设有颗粒阻尼(103)。
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