[发明专利]基于能量识别的X射线位相成像非相干散射消除装置无效
| 申请号： | 200610024489.1 | 申请日： | 2006-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN1821866A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 喻虹;韩申生;张帅;彭卫军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03B42/02 | 分类号： | G03B42/02;G01N23/04;A61B6/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种基于能量识别的X射线位相成像非相干散射消除装置，包括X射线产生及调制系统，待测物固定装置，和后端X射线调制及探测系统三部分。本发明通过选择不同的滤除材料，能保证有效X射线基本没有损失，波长不变的初级辐射几乎可以全部到达X射线探测器，而消除非相干散射对成像质量的影响。本发明能滤除对人体损伤较大的长波长X射线，使得成像过程对人体或生物组织的损伤达到最小，且具有普遍适用、制作简单、低成本、小体积和稳定性好的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 能量 识别 射线 位相 成像 相干 散射 消除 装置 | ||
【主权项】：
1、一种基于能量识别的X射线位相成像非相干散射消除装置，包括X射线产生及调制系统，待测物固定装置和后端X射线调制及探测系统三部分，其特征在于：<1>所述的X射线产生及调制系统由位于防辐射外壳中的X射线发生装置、X射线源调制器和位于防辐射外壳上的X射线出射窗构成；所述的后端X射线调制及探测系统由后端X射线调制器和X射线探测器构成；所述的待测物固定装置置于X射线产生及调制系统与后端X射线调制及探测系统之间；<2>所述的位于防辐射外壳中的X射线发生装置产生X线束的焦点，X射线源调制器和位于防辐射外壳上的X射线出射窗，待测物固定装置，以及后端X射线调制器和X射线探测器同轴；
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