[发明专利]投影曝光装置中的同轴位置对准系统和对准方法无效
| 申请号： | 200610023153.3 | 申请日： | 2006-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN1794095A | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | 徐兵;王鹏程;闫岩 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投影曝光装置中的同轴位置对准系统，设置于一个至少由光学投影系统、掩模版、承片台、曝光对象，以及部件运动控制系统组成的投影曝光装置上，其包括，以光学投影系统轴线为轴心均匀分布的不少于两个的位置对准装置、设置于掩模版上的掩模标记、设置于承片台上的承片台基准标记、设置于曝光对象上的曝光对象标记，所述的位置对准装置通过检测所述的掩模标记、基准标记、曝光对象标记的位置信息并传送给部件运动控制系统，以控制掩模版、承片台、曝光对象位置调整使其对准。本发明实现了掩模和曝光对象之间的高精度位置对准。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 曝光 装置 中的 同轴 位置 对准 系统 方法 | ||
【主权项】：
1、一种投影曝光装置中的同轴位置对准系统，设置于一个至少由光学投影系统、掩模版、承片台、曝光对象，以及部件运动控制系统组成的投影曝光装置上，其特征在于它包括，以光学投影系统轴线为轴心均匀分布的不少于两个的位置对准装置、设置于掩模版上的掩模标记、设置于承片台上的承片台基准标记、设置于曝光对象上的曝光对象标记，所述的位置对准装置通过检测所述的掩模标记、基准标记、曝光对象标记的位置信息并传送给部件运动控制系统，以控制掩模版、承片台、曝光对象位置调整使其对准。
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