[发明专利]可调谐等离子体谐振腔无效
申请号: | 200610018569.6 | 申请日: | 2006-03-16 |
公开(公告)号: | CN1858298A | 公开(公告)日: | 2006-11-08 |
发明(设计)人: | 孙建华;李震宇;刘善沛 | 申请(专利权)人: | 长飞光纤光缆有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/52;H05H1/34 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人: | 胡建平 |
地址: | 430073湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种用于PCVD光纤预制棒加工机床的可调谐等离子体谐振腔,包括有圆柱型谐振腔壳体,在圆柱型谐振腔壳体的两端设置截止波导,其不同之处在于在圆柱型谐振腔腔体的一端安设调谐活塞,调谐活塞的中部开设通孔,后端延伸至圆柱型谐振腔壳体外端。本发明通过在谐振腔设置调谐活塞,能使波导装置很好地与谐振腔负载匹配,实现能量耦合的实时控制;这有助于提高PCVD工艺的加工精度和效率,避免微波对系统器件的损坏,提高等离子体谐振腔微波系统的有效使用寿命;本发明的场结构稳定,无极化兼并模式,损耗小,Q值高。本发明还具有结构简单,性能稳定,便于加工和制作的特点。 | ||
搜索关键词: | 调谐 等离子体 谐振腔 | ||
【主权项】:
1、一种可调谐等离子体谐振腔,包括有圆柱型谐振腔壳体,在圆柱型谐振腔壳体的两端设置截止波导,其特征在于在圆柱型谐振腔腔体的一端安设调谐活塞,调谐活塞的中部开设通孔,后端延伸至圆柱型谐振腔壳体外端。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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