[发明专利]聚合物基底双平面电磁线圈的制作方法无效
| 申请号： | 200610017204.1 | 申请日： | 2006-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN101150008A | 公开（公告）日： | 2008-03-26 |
| 发明（设计）人： | 刘波;张平;吴一辉;王淑荣;刘永顺;张涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;H01F5/00;B81C1/00;B81B7/00 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130031吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明属于微电子机械系统技术领域，是一种聚合物基底双平面电磁线圈的制作方法。用微机械工艺和聚合物微复制技术，在硅片表面刻蚀线圈微沟槽，以此为初级模版，在其图形上浇铸聚二甲基硅氧烷，固化脱模后便得到具有与硅初级模版图形相反的硅橡胶模版；组装好具有双面图形的一对硅橡胶模版，在其内注塑环氧树脂，固化脱模后便得到具有双面沟槽的环氧树脂线圈基底；在聚合物基底沟槽内进行电铸，得到线圈的金属结构。本发明利用聚合物的优良特性发展了微机械技术，其特点在于：用聚合物替代硅材料，具有良好的韧性，电绝缘性能好，价格便宜；采用的复制技术降低了制造成本，减少了标准微机械制造中的光刻、蚀刻等步骤，并提高了成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 基底 平面 电磁 线圈 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物基底双平面电磁线圈的制作方法，其特征在于：a.利用传统光刻和硅深刻蚀技术制作硅初级模版(6)，与其它组件组装成模具，在该模具内注入聚二甲基硅氧烷浇铸液，固化脱模后便得到硅橡胶模版(7)；b.把硅橡胶模版(7)与其它组件组装成模具，在该模具内注入环氧树脂浇铸液，固化脱模后便得到环氧树脂基底，作为平面线圈的聚合物基底(11-1)；c.在聚合物基底(11-1)的沟槽内蒸镀种子层(11-3)，以此为电极进行电铸，电铸完成后得到双平面线圈(11)。
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