[发明专利]硅磨片清洗剂无效
| 申请号： | 200610014439.5 | 申请日： | 2006-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1865421A | 公开（公告）日： | 2006-11-22 |
| 发明（设计）人： | 刘玉岭;李广福;李薇薇 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | C11D1/66 | 分类号： | C11D1/66;C11D3/30;H01L21/304 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 | 代理人： | 肖莉丽 |
| 地址： | 30013*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅磨片清洗剂，旨在提供一种使用胺碱与非离子表面活性剂的混合溶液来替代现在广泛采用的RCA清洗，来实现现在大规模集成电路对硅磨片的表面洁净度的要求。按体积百分比由下述组分组成：胺碱20～70％，JFC 5～40％，非离子表面活性剂5～20％，余量的去离子水。本发明中的胺碱不仅能与硅磨片表面的有机物互溶，而且能和其发生化学反应，从而达到去除有机物的目的。而其中的非离子表面活性剂能大大降低水的表面张力，从而对颗粒的去除效果非常理想。本发明由于使用了水及各种低毒试剂，不危及工人健康、环保、而且不可燃、不爆炸，安全性好，而且降低了成本、提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 硅磨片清 洗剂 | ||
【主权项】：
1、一种硅磨片清洗剂，其特征在于按重量百分比由下述组分组成：胺碱20～70％，JFC 5～40％，非离子表面活性剂5～20％，余量的去离子水。
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