[发明专利]一种用于去除集成电路光刻胶的清洗液无效
| 申请号： | 200610014415.X | 申请日： | 2006-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN101093363A | 公开（公告）日： | 2007-12-26 |
| 发明（设计）人： | 仲跻和;李家荣;周云昌;李薇薇;杨文静 | 申请（专利权）人： | 天津晶岭电子材料科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 国嘉律师事务所 | 代理人： | 高美岭 |
| 地址： | 300457天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种用于去除集成电路光刻胶的清洗液，由复合型螯合剂、双氧水和去离子水组成；各种成分所占重量百分比为：复合型螯合剂5～10％；双氧水3～8％；去离子水为余量。复合型螯合剂为羟胺和醇胺的混合物；其混合比例为(2～10)∶1；双氧水的浓度为3～30％。本发明的优点是：1.该清洗液使用的螯合剂不含金属离子，不会造成金属离子污染，而对金属离子有较强的去除功能；2.减少了氧化物损失和硅损失；3.清洗液成分稳定，确保良好的清洗效果；4.降低水耗，有利于环保；5.工艺简单，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 去除 集成电路 光刻 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种用于去除集成电路光刻胶的清洗液，其特征在于：由复合型螯合剂、双氧水和去离子水组成；各种成分所占重量百分比为：复合型螯合剂5～10％；双氧水3～8％；去离子水为余量。
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