[发明专利]图案形成方法及装置、电敏感元件及滤色器的制造方法无效
| 申请号： | 200610007110.6 | 申请日： | 2002-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN1815362A | 公开（公告）日： | 2006-08-09 |
| 发明（设计）人： | 宫泽贵士 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;H01L21/027;H05B33/10;H05B33/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 特别提供一种材料选择自由度高的新颖的图案形成方法，同时提供膜形成方法、采用上述图案形成方法的有机小型电敏感元件的制造方法和滤色器的制造方法、以及电光学装置及其制造方法、和电子仪器。在第一基体(透明基板121)的上方设置材料层10，利用光线照射这种材料层10，使材料层10的材料迁移到第一基体(透明基板121)上，形成所需图案的材料部分的图案形成方法。另外，通过激光光线照射受客层的材料层，在该受客层内注入该材料层(激光渗杂法)，对该受客层付与所希望的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 装置 敏感 元件 滤色器 制造 | ||
【主权项】：
1、一种图案形成方法，其特征在于：包括在第一基体上方设置材料层，通过对该材料层照射光线，使包含在该材料层中的材料迁移到上述第一基体内或上述第一基体上，从而形成图案的步骤，在上述步骤中，进行上述光线的照射位置的扫描。
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