[发明专利]电路设计图案的结构元素几何尺寸的优化方法及其用途无效
| 申请号： | 200610006698.3 | 申请日： | 2006-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN1828614A | 公开（公告）日： | 2006-09-06 |
| 发明（设计）人： | B·路德维希;R·克勒;M·黑斯迈尔;A·泽姆勒;D·迈尔;C·内尔谢尔;J·蒂勒 | 申请（专利权）人： | 因芬尼昂技术股份公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 程天正;张志醒 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于优化图案(22)的结构元素(24)的几何尺寸的方法。首先提供电路设计图案(22)和多个基本图案(30，32)。随后，迭代地将电路设计图案(22)分解为相应的基本图案，以便在存在与基本图案的匹配的情况下对多个结构元素(24)的图案的那些部分进行分类。之后针对在前一步骤中未被分类的图案(22)的那些部分，确定其它的基本图案(34)。在应用用于优化结构元素的几何尺寸的规范之后，将优化的基本图案插入到电路设计中，以便实现光学成像特性的改进。本发明还涉及使用该方法来生产光掩膜(18)。 | ||
| 搜索关键词： | 电路设计 图案 结构 元素 几何 尺寸 优化 方法 及其 用途 | ||
【主权项】：
1、用于改进光学成像特性的、电路设计图案(22)的结构元素的几何尺寸的优化方法，执行以下步骤；-提供以电子方式存储的电路设计图案(22)，该图案(22)包含多个结构元素；-提供多个基本图案，每一基本图案(30)包含特定数目的在特定布置中作为几何图元的结构元素；-迭代地将电路设计图案(22)分解为相应的基本图案，针对每一基本图案(30)渐进地执行以下步骤；(a)为了限定工作区(40)，确定基本图案的几何图元的外部尺寸；(b)限定完全包围工作区(40)的周围区域；(c)比较基本图案与工作区(40)内多个结构元素的图案(22)的部分，并且检查周围区域，以便确定其它结构元素(24)是否位于周围区域(42)内；以及(d)在存在与基本图案(30)的匹配并且没有结构元素(24)位于周围窗口内的情况下对多个结构元素的图案(22)的那些部分进行分类，在光刻投影的情况下所述周围窗口影响位于工作区(40)内的图案(22)的那部分；-基于在前一步骤中未被分类的图案的那些部分来确定其它基本图案(30)，以便得到完全被分类的电路设计图案(22)；-应用用于优化基本图案的结构元素(24)的几何尺寸的规范；-为了实现在光刻投影的情况下在把电路设计图案(22)转移到半导体晶片上时改进光学成像特性，把优化的基本图案(30)插入到电路设计内。
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