[发明专利]器件和其制造方法、电光学装置和其制造方法、电子仪器有效
申请号: | 200610006220.0 | 申请日: | 2006-01-24 |
公开(公告)号: | CN1811545A | 公开(公告)日: | 2006-08-02 |
发明(设计)人: | 蛭间敬 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1337;G02F1/1339 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种器件的制造方法,具有形成在基板上的第(1)区域并被包围在密封部的膜,其中具有:对所述基板上的第(2)区域喷出含有所述膜的材料的液体的工序;对所述基板上的液体进行干燥的工序;所述第(2)区域为所述密封部的内侧,所述第(2)区域的面积为所述第(1)区域的面积的1.3倍以上。 | ||
搜索关键词: | 器件 制造 方法 光学 装置 电子仪器 | ||
【主权项】:
1、一种器件的制造方法,是具有被形成在基板上的第1区域中、并由密封部包围的膜的器件的制造方法,其中具有:对所述基板上的第2区域喷出含有所述膜的材料的液体的工序;和对所述基板上的液体进行干燥的工序;所述第2区域为所述密封部的内侧,所述第2区域的面积为所述第1区域的面积的1.3倍以上。
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