[发明专利]非挥发性存储器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610005890.0 申请日: 2006-01-19
公开(公告)号: CN101005072A 公开(公告)日: 2007-07-25
发明(设计)人: 赖亮全 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L21/8239
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种非挥发性存储器,由基底、多个主体层、多个控制栅极、多个浮置栅极与多个掺杂区所构成。基底表面具有一层绝缘层。主体层设置于基底上,主体层呈条状平行排列并往第一方向延伸。控制栅极设置于基底上,控制栅极呈条状平行排列,并往第二方向延伸,其中,第二方向与第一方向交错,且控制栅极填满主体层于第二方向上的间隙。浮置栅极设置于控制栅极与主体层之间。掺杂区则设置于控制栅极之间的主体层中。
搜索关键词: 挥发性 存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种非挥发性存储器,包括:基底,该基底表面设置有绝缘层;多个主体层,设置于该基底上,该些主体层平行排列,并往第一方向延伸;多个控制栅极,设置于该基底上,该些控制栅极平行排列,并往第二方向延伸,该第二方向与该第一方向交错,且该些控制栅极填满该些主体层于该第二方向上的间隙;多个浮置栅极,设置于该些控制栅极与该些主体层之间;以及多个掺杂区,设置于该些控制栅极之间的该些主体层中。
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