[发明专利]用于受光体的最外层有效
| 申请号： | 200610004914.0 | 申请日： | 2006-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN1804728A | 公开（公告）日： | 2006-07-19 |
| 发明（设计）人： | Y·齐;N·－X·胡;J·F·格拉哈姆;T·P·本德;A·－M·侯;Y·加农;C·－K·肖 | 申请（专利权）人： | 施乐公司 |
| 主分类号： | G03G5/06 | 分类号： | G03G5/06;G03G5/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭广迅;李连涛 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 芳族含硅化合物具有下式：Ar－[X－L－SiRn (OR’) 3－n] m其中Ar表示芳族基团，X表示二价或三价基团；L表示二价连接基团；R表示氢原子、烷基或芳基；R’表示烷基；n是0－2的整数；和m是1－5的整数。芳族含硅化合物可用于电子照相受光体，特别地用于这种电子照相受光体的最外保护层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 受光体 外层 | ||
【主权项】：
1.具有式(I)的芳族含硅化合物： Ar-[X-L-SiRn(OR’)3-n]m (I)其中：Ar表示芳族基团；X表示二价或三价基团；L表示二价连接基团；R表示氢原子、烷基或芳基；R’表示具有1-5个碳原子的烷基；n是0-2的整数；和m是1-5的整数。
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