[发明专利]台架控制设备和方法，台架设备和曝光设备无效
| 申请号： | 200610004770.9 | 申请日： | 2006-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN1818793A | 公开（公告）日： | 2006-08-16 |
| 发明（设计）人： | 森贞雅博 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王萍 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于控制在其上可放置并移动基片的台架的台架控制设备，其基于对应于基片表面不均匀性的基片表面位置信息产生与台架垂直方向相关的目标值，并基于所产生的目标值与测量的台架位置之间的偏差信号产生台架的驱动命令信号。基于由基片表面不均匀性所具有的空间频率决定目标频率。为了产生该驱动命令信号，使用通过放大偏差信号的目标频率的分量所获得的信号。 | ||
| 搜索关键词： | 台架 控制 设备 方法 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种台架控制设备，用于控制其上可放置并移动基片的第一台架，该控制设备包括：目标值产生装置，用于基于对应于基片表面的不均匀性的基片表面位置信息，产生与第一台架的垂直方向相关的目标值；以及信号产生装置，用于基于由所述目标值产生装置产生的目标值与第一台架的测量的位置之间的偏差信号，产生第一台架的驱动命令信号；其中所述信号产生装置用于获得一个目标频率，该频率已基于基片表面的不均匀性所具有的空间频率被决定，并用于使用通过放大偏差信号的目标频率的分量而获得的信号来产生该驱动命令信号。
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