[发明专利]具有侧壁磁体的感应等离子体系统无效
申请号: | 200610003273.7 | 申请日: | 2006-02-08 |
公开(公告)号: | CN1818132A | 公开(公告)日: | 2006-08-16 |
发明(设计)人: | 陆思青;梁起威;赖灿风;杰森·博洛金;埃利·Y·易 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/52;C23C16/54;H01L21/365 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 赵飞 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种衬底处理系统具有限定处理室的壳体。衬底夹持器放置在处理室内并被配置来在衬底处理期间支撑衬底平面内的衬底。气体传输系统被配置来将气体引入到处理室内。压力控制系统维持处理室内的选定压力。高密度等离子体生成系统与处理室可操作的耦合。具有磁偶极子的磁约束环沿垂直于衬底平面的对称轴呈圆周形放置,并且提供了具有基本不平行于衬底平面的净偶极矩的磁场。控制器控制气体传输系统、压强控制系统和高密度等离子体系统。 | ||
搜索关键词: | 具有 侧壁 磁体 感应 等离子体 系统 | ||
【主权项】:
1.一种衬底处理系统,包括:限定处理室的壳体;放置在所述处理室内并被配置来在衬底处理期间支撑衬底平面内的衬底的衬底夹持器;被配置来将气体引入到所述处理室内的气体传输系统;用于维持所述处理室内的选定压力的压力控制系统;与所述处理室可操作地耦合的高密度等离子体生成系统;磁约束环,所述磁约束环具有沿垂直于所述衬底平面的对称轴呈圆周形放置的多个磁偶极子,并且提供了具有基本不平行于所述衬底平面的净偶极矩的磁场;以及用于控制所述气体传输系统、所述压力控制系统和所述高密度等离子体生成系统的控制器。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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