[发明专利]金属-绝缘-金属结构的电容器、半导体装置及制造方法有效

专利信息
申请号: 200610000914.3 申请日: 2006-01-12
公开(公告)号: CN1925154A 公开(公告)日: 2007-03-07
发明(设计)人: 梁耀祥 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/06;H01L27/08;H01L21/02;H01L21/768
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 台湾省新竹科学*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是关于一种金属-绝缘-金属结构的电容器、半导体装置及制造方法,所述一种金属-绝缘-金属结构的电容器,包括:一顶金属板与一底金属板,其间设置有一绝缘物,其中该顶金属板大体重叠该绝缘物,而该底金属板具有未为该顶金属板与该绝缘物所覆盖的一露出部;一抗反射涂层位于该顶金属板上、该顶金属板与该绝缘物的侧壁上以及该底金属板的露出部上;以及一介电层分隔该抗反射层与该顶金属层,该绝缘物与该底金属板。本发明位于抗反射涂层下方的介电层有效地阻绝了位于顶金属板与底金属板间的漏电流路径,并阻绝了位于金属-绝缘-金属电容器与集成电路内的其他元件间的漏电流路径。因此,其击穿电压可因而增加。
搜索关键词: 金属 绝缘 金属结构 电容器 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,所述半导体装置包括:一底金属板;一绝缘物,位于该底金属板上;一顶金属板,位于该绝缘物上;一介电层,位于该顶金属板以及至少该顶金属板与该绝缘物的侧壁上;以及一抗反射涂层,位于该介电层上。
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