[发明专利]钯和钯-合金颗粒上的氢吸附诱导的金属沉积无效

专利信息
申请号: 200580047463.2 申请日: 2005-08-23
公开(公告)号: CN101111337A 公开(公告)日: 2008-01-23
发明(设计)人: 王佳;拉多斯拉夫·R·阿季奇 申请(专利权)人: 布鲁克哈文科学协会
主分类号: B22F9/00 分类号: B22F9/00;B22F9/06;B22F9/16;C22C28/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;李丙林
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及用于生产金属涂敷的钯或钯-合金颗粒的方法。该方法包括使吸附氢的钯或钯-合金颗粒与一种或多种金属盐接触,以在吸附氢的钯或钯-合金颗粒的表面上生成亚-单原子或单原子金属或金属合金涂层。本发明还涉及用于生产催化剂的方法和利用本发明的金属涂敷的钯或钯-合金颗粒来产生电能的方法。
搜索关键词: 合金 颗粒 吸附 诱导 金属 沉积
【主权项】:
1.一种用于生产金属涂敷的钯或钯-合金颗粒的方法,所述方法包括使吸附氢的钯或钯-合金颗粒与金属盐或金属盐混合物接触,以在所述吸附氢的钯或钯-合金颗粒的表面上沉积亚-单原子或单原子金属涂层或亚-单原子或单原子金属合金涂层,由此生产金属涂敷的或金属合金涂敷的钯或钯-合金颗粒。
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