[发明专利]防反射薄膜有效
| 申请号： | 200580046098.3 | 申请日： | 2005-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101099093A | 公开（公告）日： | 2008-01-02 |
| 发明（设计）人： | 所司悟;小野泽丰;富冈健太 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/10;B32B7/02 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种防反射薄膜，其在基材薄膜的至少一面上，依次具有(A)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和2～25重量％的防带电剂的硬涂层，厚度为1～20μm；以及(B)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和30～80重量％的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，厚度为0.05～0.3μm，且表面电阻率为5×1012Ω/□以下。具有如下特征：防反射层是1层，其能有效防止图像显示元件的表面的光反射，同时，抑制尘埃和灰尘等附着的防带电效果的持续性和耐擦伤性优异，且耐溶剂性也优异。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种防反射薄膜，其特征在于在基材薄膜的至少一面上，依次具有(A)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和2～25重量％的防带电剂的硬涂层，厚度为1～20μm；以及(B)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和30～80重量％的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，厚度为0.05～0.3μm，且该防反射薄膜表面电阻率为5×1012Ω/□以下。
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