[发明专利]基于激光的材料处理方法、系统和其中用于精确能量控制的子系统

摘要

提供了基于激光的材料处理方法、系统(150)和其中用于精确能量控制的子系统，其中体积衰减器(125)越过RF驱动器(102)输出(0－2W)被转换到非常低的总RF输出(0－2W)和最终的每脉冲激光能量。衰减器的值确定可获得的能量范围，pj或pj的一部分。多于一个衰减器和开关可用于获得多个能量范围。在体积衰减器(125)接通后，激光能量极大地减少且RF驱动器然后可在SNR好得多的全RF功率附近再次运行。来自DAC的输入电压也高得多，所以输入电压也不在其范围的低端，其中由于SNR较差输入电压在其范围低端伴有噪声。该方法和系统提供增加的动态范围，较大的衰减性(尽可能低的能量)，较好的准确性和稳定性，后者是由于DAC输入电压的SNR较高和RF驱动器102中SNR较高。

主权项

1.一种基于激光的材料处理方法，包括：用具有第一能量密度的第一激光输出辐射材料，所述第一能量密度足够高以产生可检测的激光辐射作为所述第一激光输出和所述材料相互作用的结果，并且足够低以避免所述材料实质上的改变；检测所述可检测的激光辐射的至少一部分，以产生代表所述材料的属性的数据；分析所述数据；和根据所述分析的数据用激光材料处理输出来辐射目标材料，所述材料处理输出具有处理能量密度，所述处理能量密度充分大于所述第一能量密度，并且足够高以改变所述目标材料的物理属性从而处理所述目标材料。