[发明专利]用于多层或多图案套准的压印参考模板及其方法无效
| 申请号： | 200580044505.7 | 申请日： | 2005-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN101088045A | 公开（公告）日： | 2007-12-12 |
| 发明（设计）人： | 马修·E.·科尔博恩;伊夫·C.·马丁;查尔斯·T.·雷特纳;西奥多·G.·范·克赛尔;荷玛萨·K.·维克拉玛辛赫 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李镇江 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种形成多个掩膜的方法(以及结果结构)，包括：创建参考模板，使用压印光刻在用于给定芯片组的所有多个掩膜空白上印刷至少一个参考模板对准标记，并在所述多个掩膜空白的每一个上印刷子图案，并且将子图案与所述至少一个参考模板对准标记对准。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 多层 图案 压印 参考 模板 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成多个掩膜的方法，包括：创建包含一个或多个对准特征的参考模板；使用光刻在用于给定芯片组的所有多个掩膜空白上印刷所述参考模板的至少一个拷贝；和在所述多个掩膜空白的每一个上印刷子图案，并且将所述子图案与所述至少一个参考模板对准标记对准。
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