[发明专利]用于化学机械抛光浆料的辅助剂有效
| 申请号： | 200580041069.8 | 申请日： | 2005-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101068901A | 公开（公告）日： | 2007-11-07 |
| 发明（设计）人： | 李基罗;金种珌;李政熹;洪政填;洪瑛晙;金鲁马;李安娜 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于阳离子带电材料和阴离子带电材料同时抛光的辅助剂，其在阳离子带电材料上形成吸附层以提高阴离子带电材料对阳离子带电材料的抛光选择性，其中所述辅助剂包含聚合电解质盐，该聚合电解质盐包含：(a)重均分子量为1,000～20,000并包含主链和侧链的接枝型聚合电解质；以及(b)基材。本发明还公开了包含上述辅助剂和磨粒的CMP(化学机械抛光)浆料。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 浆料 辅助剂 | ||
【主权项】：
1、一种用于阳离子带电材料和阴离子带电材料同时抛光的辅助剂，其在阳离子带电材料上形成吸附层，以增加阴离子带电材料的抛光选择性，其中所述辅助剂包含聚合电解质盐，该聚合电解质盐包含：(a)重均分子量为1,000～20,000并包含主链和侧链的接枝型聚合电解质；以及(b)基材。
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