[发明专利]光刻方法

摘要

描述了一种实现倍频光刻形成图案的方法。将具有第一周期(p₁)的光学图案(16)用于对衬底(20)上的传统酸催化光致抗蚀剂(18)进行曝光，留下高曝光区(24)、低曝光区(26)和中间曝光区(22)。处理接着进行，留下接受高曝光的很有极性的高曝光区(24)(即，亲水性)，低曝光的很非极性的低曝光区(26)(即，疏水性)、以及具有中间极性的中间区。然后将诸如丙二醇醋酸甲乙酯之类的中间极性显影剂用于仅溶解中间区(22)，留下将要形成图案为具有光学周期(p₁)一半的间距(p₂)的光致抗蚀剂。替代地，从非极性区和极性区上去除光致抗蚀剂，仅留下再次具有与光学周期(p₁)的一半相同的间距(p₂)的中间区(22)。

主权项

1.一种光刻形成图案的方法，包括：将光致抗蚀剂(18)涂到将要形成图案的表面上；使用光辐射通过掩模图案(12)对光致抗蚀剂(18)进行曝光，并且执行曝光后烘烤，其中，利用增加光学曝光，光致抗蚀剂(18)经过中间极性阶段从非极性变为有极性，反之亦然，曝光步骤导致具有极性区(24)、非极性区(26)和中间极性区(22)的光致抗蚀剂；以及对光致抗蚀剂(18)进行显影，以从中间极性区(22)或从极性区和非极性区(24，26)两者上去除光致抗蚀剂，在除了中间极性区(22)或极性区和非极性区(24、26)两者的其它区域中留下光致抗蚀剂。