[发明专利]用于改善的化学机械抛光的方法和设备有效
| 申请号： | 200580037158.5 | 申请日： | 2005-10-05 |
| 公开（公告）号： | CN101048260A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | 拉杰夫·巴贾 | 申请（专利权）人： | 拉杰夫·巴贾 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抛光垫，其包括在一侧具有粘附在其上的多孔浆液分布层而在另一侧具有可压缩下层的导板。穿过所述浆液分布层和所述导板彼此交叉从而相对彼此维持在平面取向的多个抛光元件和导板粘附于柔性的下层上，以及每个抛光元件在与所述浆液分布层相邻的所述导板的表面上方伸出。可选地，薄膜可设置于所述导板和所述浆液分布层之间。所述抛光垫还可包括磨损传感器以有助于确定垫磨损和寿命终点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改善 化学 机械抛光 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种抛光垫，包括：在一侧上具有粘附在其上的多孔浆液分布层以及在另一侧上具有可压缩下层的导板；以及穿过所述浆液分布层和所述导板彼此交叉从而相对其他抛光元件和导板维持在平面取向的多个抛光元件，其中，每个抛光元件粘附于所述可压缩下层并在靠近所述浆液分布层的所述导板的表面上方伸出。
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