[发明专利]光学元件制造方法、光学元件、尼普科夫盘、共焦光学系统以及三维测量装置有效
| 申请号： | 200580037028.1 | 申请日： | 2005-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN101048676A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | 浜村宽;门松洁;雨宫升 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02B5/02;G01B11/24;G02B21/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘建功;车文 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光学元件制造方法包括：设置遮光层(14)，该遮光层包括在用作基底件的基质上的作为最上层的至少Si层；在遮光层(14)上形成光学孔径(14a)；以及通过干法蚀刻在最上层的表面上形成微小的凹进/凸起结构。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制造 方法 尼普科夫盘 光学系统 以及 三维 测量 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件制造方法，包括：设置遮光层，该遮光层包括作为在用作基底件的基质上的最上层的至少一层Si层；在遮光层形成的光学孔径；以及通过干法蚀刻在该最上层的表面处形成微小的凹进/凸起结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580037028.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：限域供应人工气流气动力能量转换装置
- 下一篇：疾病诊断系统
