[发明专利]具有电接触的衬底及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200580036128.2 申请日: 2005-10-18
公开(公告)号: CN101044619A 公开(公告)日: 2007-09-26
发明(设计)人: 尼古拉斯·范费恩 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L21/60
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈瑞丰
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 公开了一种具有第一金属接触焊盘(13a、…、13d)的衬底(10),将所述第一接触焊盘(13a、…、13d)和第二衬底(20)的第二接触焊盘(23a、…、23d)焊接在一起。根据本发明,所述第一接触焊盘(13a、…、13d)相对于所述第一表面的最大平面延伸(Din)不超过20μm。因此,当将第一衬底(10)和第二衬底(20)焊接到一起时,可以实现0或几乎为0的远离Xin。例如,该方法可应用于倒装芯片技术,其中优选地,将简称为UBM的“凸块下方金属化”和简称为ISB的“浸没焊料凸块”用于制造所述衬底(10)。
搜索关键词: 具有 接触 衬底 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种具有第一表面的衬底(10),所述第一表面包括通过其间的绝缘区来分离的第一金属接触焊盘(13a、…、13d),将所述第一接触焊盘(13a、…、13d)和第二衬底(20)的第二表面上的第二接触焊盘(23a、…、23d)焊接在一起,其中所述衬底(10)上的所述第一接触焊盘(13a、…、13d)和第二衬底(20)上相应的第二接触焊盘(23a、…、23d)然后彼此面对,并且所述第一接触焊盘(13a、…、13d)相对于所述第一表面的最大平面延伸(Din)不超过20μm。
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