[发明专利]母盘基底和制造高密度浮雕结构的方法无效
| 申请号： | 200580035787.4 | 申请日： | 2005-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN101044566A | 公开（公告）日： | 2007-09-26 |
| 发明（设计）人： | E·R·迈因德斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 龚海军;刘红 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于光学记录的母盘基底(10)，包括记录层(12)和基底层(14)，该记录层包括生长受控相变材料，相变材料关于化学试剂的化学特性由于通过将光投射在记录层上所引起的相变而可以改变。出于跟踪目的，基底层包括预凹槽(16)。本发明进一步涉及一种制造用于复制高密度浮雕结构的压模的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 母盘 基底 制造 高密度 浮雕 结构 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于光学记录的母盘基底(10)，包括记录层(12)和基底层(14)，该记录层包括相变材料，相变材料关于化学试剂的特性由于通过将光投射在记录层上所引起的相变而可以改变，以及基底层包括用于跟踪目的的结构(16)。
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