[发明专利]主盘基板及制造高密度浮雕结构的方法无效
| 申请号： | 200580035769.6 | 申请日： | 2005-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN101044564A | 公开（公告）日： | 2007-09-26 |
| 发明（设计）人： | E·R·迈因德斯;R·A·洛克 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 程天正;王忠忠 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于获得高密度浮雕结构的记录堆栈，其包括：第一记录层(10)，其在第二记录层(20)上面，所述记录层由基板层(14)支持，其中，当将光投射到记录层时，根据相对于记录层的化学剂的局部变化，记录层的局部相互作用产生标记(16)。本发明还涉及制造浮雕结构的方法以及生产光学数据载体的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 主盘基板 制造 高密度 浮雕 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于获得高密度浮雕结构的记录堆栈，包括：第一记录层(10)，在第二记录层(20)上面，所述记录层由基板层(14)支持，其中，当将光投射到记录层时，根据相对于记录层的化学剂的性质的局部变化，记录层的局部相互作用导致产生标记(16)。
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