[发明专利]用于微影曝光工具中的污染检测与监控的方法及系统以及其在控制空气条件下的操作方法无效
| 申请号： | 200580033102.2 | 申请日： | 2005-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN101031847A | 公开（公告）日： | 2007-09-05 |
| 发明（设计）人： | U·克纳佩;U·欧可洛尼亚吾 | 申请（专利权）人： | 先进微装置公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戈泊;程伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 借着使用如色谱分析(chromatography)与吸收光谱的高效率检测技术，可验证一或多种污染物及可定量地决定其浓度。以这种方式，对如光罩(reticle)与透镜的曝光工具的关键元件的不利效应，以例如沉积无机盐的形式，可显著地降低，而可提升工艺的效能。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 曝光 工具 中的 污染 检测 监控 方法 系统 及其 控制 空气 条件下 操作方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光系统，包括：辐射源(110)，设成提供指定的波长范围及曝光剂量范围的辐射；曝光腔室(120)，该曝光腔室内具有腔室空气；光学系统(130)，配置于该曝光腔室(120)内并设成接收从该辐射源(110)来的辐射以及将该接收的辐射成像在基材102上；以及检测系统(140)，设成定量地检测该腔室空气中的至少一种污染物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先进微装置公司，未经先进微装置公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580033102.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
