[发明专利]共聚物及形成上层膜用组合物

摘要

本发明形成一种上层膜，其不与光致抗蚀剂膜引起互混，可在抗蚀剂上形成覆膜，不溶出于浸液曝光时的介质而能维持稳定覆膜，进而，在施实非浸液曝光的干式曝光时不造成图案形状劣化，且容易溶解于碱显影液。其特征为含有至少一种选自具有下述式(1)表示的基团的重复单元、具有下述式(2)表示的基团的重复单元、及具有羧基的重复单元中的重复单元(I)、与具有磺基的重复单元(II)，通过凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为2,000－100,000。式中，R¹及R²的至少一方为碳数1－4的氟化烷基；式(2)中，R³为碳数1－20的氟化烷基。

主权项

1.共聚物，其特征为，含有至少一种选自具有下述式(1)表示的基团的重复单元、具有下述式(2)表示的基团的重复单元、及具有羧基的重复单元中的重复单元(I)，与具有磺基的重复单元(II)，通过凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为2,000-100,000，式(1)中，R¹和R²为氢原子、碳数1-4的烷基、或碳数1-4的氟化烷基，R¹和R²的至少一方为碳数1-4的氟化烷基；式(2)中，R³为碳数1-20的氟化烷基。