[发明专利]光学记录介质、其记录和复制方法以及光学记录装置无效
| 申请号： | 200580028762.1 | 申请日： | 2005-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN101022958A | 公开（公告）日： | 2007-08-22 |
| 发明（设计）人： | 八代彻;中村有希;见上竜雄;清水几夫;衣笠元晴;丰田浩 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光;协和发酵化学有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/26 | 分类号： | B41M5/26;G11B7/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及依次包含第一基底、第一信息层、中间层、第二信息层和第二基底的光学记录介质，其中第一信息层含有布置在第一基底上的第一记录层，并且第二信息层还有依次布置在第二基底上的反射层、含有有机燃料的第二记录层和保护层；并且第二记录层含有选择特定斯夸鎓金属螯合物中至少一种的有机染料。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 复制 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
1、一种光学记录介质，依次包括：第一基底、第一信息层、中间层、第二信息层、和第二基底，其中第一信息层包括布置在第一基底上的第一记录层，并且第二信息层包括依次布置在第二基底上的反射层、含有有机染料的第二记录层和保护层；并且第二记录层含有选自由下式(1)表示的斯夸鎓金属螯合物中的至少一种的有机染料：![]()
其中M表示具有配位功能的金属原子；m是0或1的整数；并且当m为0时，a和b可以彼此相同或不同，并且表示由下式(2)表示的斯夸鎓染料配体，或当m为1时，a、b和c可以彼此相同或不同，并且表示由下式(2)表示的斯夸鎓染料配体：![]()
其中R1和R2可以彼此相同或不同，并且表示可以被取代的烷基、可以被取代的芳烷基、可以被取代的芳基和可以被取代的杂环基中的任何一种；并且X表示可以被取代的芳基、可以被取代的杂环基和Z3＝CH-基(Z3表示可以被取代的杂环基)中的任何一种。
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