[发明专利]光蚀刻用冲洗液和抗蚀图案形成方法

摘要

本发明提供一种新型光蚀刻用冲洗液，其对于光致抗蚀图案来说，不会损坏产品品质，减少其表面缺陷(即Defect)，赋予其对于电子射线照射的抗性，并可用于抑制抗蚀图案的收缩；本发明还提供一种使用该冲洗液的抗蚀图案形成方法。本发明涉及一种光蚀刻用冲洗液，其包括含有(A)分子结构中具有氮原子的水溶性和/或碱可溶聚合物，及(B)至少一种选自脂肪族醇类及其烷基醚化物的水溶液；使用该冲洗液，通过(1)在基板上设置抗蚀膜的步骤；(2)通过掩模图案对该光致抗蚀膜选择性地进行曝光处理的步骤；(3)进行曝光后加热处理的步骤；(4)碱性显影处理的步骤；以及(5)以前述光蚀刻用冲洗液加以处理的步骤，形成抗蚀图案。

主权项

1.一种光蚀刻用冲洗液，该冲洗液含有如下水溶液，所述水溶液含有(A)分子结构中具有氮原子的水溶性和/或碱可溶聚合物，及(B)选自脂肪族醇类及其烷基醚化物中的至少一种。