[发明专利]用于在等离子体处理系统中确定端点的方法和装置有效
| 申请号： | 200580027667.X | 申请日： | 2005-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN101006550A | 公开（公告）日： | 2007-07-25 |
| 发明（设计）人： | 都昡昊;布赖恩·K·麦克米林 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;G01L21/30 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚;尚志峰 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种在等离子体处理系统中确定处理阈值的方法。该方法包括：露出基板以进行等离子体处理，等离子体处理包括处理开始部分、基本稳定状态部分、和处理结束部分。该方法还包括在基本稳定状态部分期间收集第一组数据；创建至少包括从由方差分量和残差分量组成的组中选取的统计模型分量的第一统计模型；以及收集第二组数据。该方法还包括创建包括统计模型分量的第二统计模型，其中，如果第一统计模型的统计模型分量与第二统计模型的统计模型分量完全不同，则基本上达到处理阈值。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 处理 系统 确定 端点 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种在等离子体处理系统中确定处理阈值的方法，包括：露出基板以进行等离子体处理，所述等离子体处理包括处理开始部分、基本稳定状态部分、以及处理结束部分；在所述基本稳定状态部分期间收集第一组数据；创建至少包括从由方差分量和残差分量组成的组中选择的统计模型分量的第一统计模型；以及收集第二组数据；创建包括所述统计模型分量的第二统计模型，其中，如果所述第一统计模型的所述统计模型分量与所述第二统计模型的所述统计模型分量基本不同，则基本达到所述处理阈值。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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