[发明专利]光学特性测量装置及方法、曝光装置及方法及组件制造方法无效

专利信息
申请号: 200580026943.0 申请日: 2005-08-09
公开(公告)号: CN101002300A 公开(公告)日: 2007-07-18
发明(设计)人: 贝濑浩二;藤井透;水野恭志 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;G01M11/02;G03F7/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 许海兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种光学特性测量装置及方法、曝光装置及方法、及组件制造方法。由于光学特性测量装置(90)中设有光学系统单元(93),因此可一并测量照明光学系统之照明形状及大小、投影光学系统之波面像差、照明光之偏振状态。因此,例如在以变形照明之一种的偏振照明进行曝光时,只要根据该测量结果调整各种光学系统,即可实现高精度的曝光。其中,该光学系统单元(93)将用以使照明光通过的开口部(97)、用以测量波面像差之微透镜阵列(98)、用以测量照明光之偏振光检测系统(99)选择性地配置于照明光之光路上。
搜索关键词: 光学 特性 测量 装置 方法 曝光 组件 制造
【主权项】:
1.一种光学特性测量装置,用以测量受检光学系统的光学特性,其特征在于,具备:入射光学系统,透过所述受检光学系统的光入射;光学单元,具有第1光学系统和第2光学系统,该第1光学系统为了测量所述受检光学系统的光学特性中的第1光学特性,而将入射至所述入射光学系统的所述光转换成第1测量光,该第2光学系统为了测量所述受检光学系统的光学特性中的第2光学特性,而将入射至所述入射光学系统的所述光转换成第2测量光;以及感光器,用以感光所述第1测量光及所述第2测量光的至少一个。
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