[发明专利]具有较小平带位移的硅质膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200580026893.6 | 申请日： | 2005-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN101001930A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | 清水泰雄;一山昌章;名仓映乃 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料（日本）株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/16 | 分类号： | C09D183/16;H01L21/762;H01L21/316;B32B18/00;H01L29/78;C01B33/12;B32B9/00;H01B3/46 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制备具有良好绝缘性的硅质膜的方法，及应用于该方法的涂料组合物。该涂料组合物包含数均分子量为100～50,000的全氢聚硅氮烷或改性全氢聚硅氮烷，以及铝化合物，用铝原子与硅原子的摩尔比表示，该涂料组合物的含铝量不小于10ppb，不大于100ppm。硅质膜是将涂料组合物涂覆到基板上，而后在含蒸汽、氧或由蒸汽和氧组成的混合气体的环境中烧制该涂覆的基板制备的。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 较小 位移 质膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种涂料组合物，包含：至少一种选自由数均分子量为100～50,000的全氢聚硅氮烷和改性全氢聚硅氮烷组成的组中的聚硅氮烷化合物，铝化合物和溶剂，用聚硅氮烷化合物中包含的铝原子与硅原子的摩尔比表示，该涂料组合物的含铝量不小于10ppb，不大于100ppm。
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C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
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